Pwodwi Deskripsyon
Aliminyòm Copper sputtering objektif se pafè pou yon kantite endistri ak aplikasyon, akòz dite segondè li yo, fòs rupture ak pwa limyè. Li gen anjeneral 1-3% kontni kwiv epi li gen pwopriyete chimik ki sanble ak aliminyòm. AlCu gen gwo pwopriyete mekanik, machinabilite ekselan, ak konvnab segondè-tanperati, kidonk li ta ka materyèl la apwopriye pou pèfòmans segondè alyaj aliminyòm. Segondè pite AlCu alyaj sib sputtering ta ka itilize nan yon pakèt domèn endistriyèl soti nan semi-conducteurs ak eleman elektwonik fonksyonèl. Avèk 5N pite segondè, gwosè inifòm grenn, pi ba kontni oksijèn, itilizatè fen ka jwenn pousantaj ewozyon konstan kòm byen ke gwo pite ak omojèn kouch fim mens pandan pwosesis PVD.
Nan pwodiksyon an nan sikui entegre, li komen ke fenomèn nan difizyon nan Silisyòm nan kouch nan interconnect aliminyòm. Si yo ajoute yon konsantrasyon satire nan Silisyòm nan aliminyòm nan fòme yon alyaj Silisyòm aliminyòm, pwoblèm nan ka efektivman amelyore. Se konsa, nou menm tou nou pwodwi aliminyòm Silisyòm AlSi sputtering sib ak aliminyòm Silisyòm kwiv AlSiCu sputtering sib pou aplikasyon IC.
|
Kategori |
Sib Alloy Sputtering |
|
Fòmil chimik |
Alkòl |
|
Konpozisyon |
Aliminyòm Copper |
|
Pite |
99.9%,99.95%,99.99% |
|
Fòm |
Plak, sib kolòn, katod arc, Custom-made |
|
Pwosesis Pwodiksyon |
Fonn vakyòm, PM |
|
Gwosè ki disponib |
L mwens pase oswa egal a 200mm, W mwens pase oswa egal a 200mm |
Materyèl ki gen rapò Sputtering
AlCu99.5/0.5wt% Sputtering Sib
AlCu99/1wt% Sputtering Sib
AlCu98/2wt% Sputtering Sib
AlCu95/5wt% Sputtering Sib
AlCu90/10wt% Sputtering sib
AlSiCu 98.5/1/0.5wt% Sputtering Sib
AlCuW 98.5/1/0.5 wt% Sputtering Sib
Baj popilè: aliminyòm kwiv (alcu) sputtering sib, Lachin aliminyòm kwiv (alcu) sputtering sib founisè, faktori


