Pwodwi Deskripsyon
Tungstène Titàn Sputtering sib yo pwodui pa teknoloji metaliji poud ki lajman itilize pou semi-conducteurs ak selil solè fim mens.
Pou aplikasyon semi-conducteurs, WTi10wt% fim mens yo itilize kòm baryè difizyon ak kouch adezyon, separe kouch metalizasyon yo soti nan semi-conducteurs, pou egzanp, separe aliminyòm ak Silisyòm, oswa kòb kwiv mete soti nan Silisyòm. Se konsa, fonksyon an nan semi-conducteurs nan microchips ka amelyore anpil.
Pou selil solè fim mens, WTi10wt% fim mens yo itilize tou kòm kouch baryè pou anpeche atòm fè nan substra asye difize nan kontak tounen molybdène ak CIGS semiconductor.Tungstène Titàn objektif yo tou itilize pou dirije ak zouti kouch.
Faktori nou an ka pwodwi WTi 90/10wt%, WTi 85/15wt% sib, ak sib konpozisyon espesyal ka Customized, dansite sib aktyèl yo> 99%.
|
Atik |
Tungstène Titàn sputtering sib |
|
Pite ki disponib |
99.9% min, jan ou mande |
|
Fòm ki disponib |
Rektang, wonn, Rotary, granules, lengote, dapre demann ou an |
|
Gwosè |
Negosyab |
|
Teknoloji |
K ap fonn |
|
Aplikasyon |
Kouch vakyòm, Pwosesis, Dekorasyon, dirije, Semi, |
|
Pwodwi ki gen rapò |
WNiFe, WTa, Mo, Ta, Nb, V, Zr, Hf, Ti, Ni, Cu elatriye |
Pwosesis pwodiksyon: fusion, chaje ak zouti plating.
1. Pite: 99.9% min,
2. Size: Dimansyon yo pwodui selon kondisyon kliyan
Aplikasyon: Li se sitou itilize nan kouch vakyòm, tretman sifas, kouch difisil, kouch vè bilding, ekspozisyon panèl plat, kouch enèji solè, kouch optik ak lòt jaden.
Baj popilè: tungstène Titàn (wti) sputtering sib, Lachin tengstèn Titàn (wti) sputtering sib founisè, faktori
