Pwodwi Deskripsyon
Molybdenum Oxide Sputtering Target ka itilize nan semi-conducteurs, depozisyon chimik vapè (CVD), ekspozisyon vapè fizik (PVD), ak aplikasyon optik. Nou se yon founisè bon jan kalite Molybdenum Oxide Sputtering Target nan pri konpetitif.
Fim oksid Molybdène gen ekselan pwopriyete elektrik, optik ak sifas fizik, epi li ka lajman itilize nan limyè-emisyon dyod (OLED), aparèy ekspozisyon kristal likid (LCD), panno ekspozisyon plasma (PDP), panno ekspozisyon emisyon jaden (FED), selil solè fim mens, materyèl kontak ohmik ba-rezistans ak lòt materyèl elektwonik ak materyèl semi-conducteurs.
Domèn aplikasyon pou trioksid molybdène
Ki baze sou pwopriyete yo ekselan ak pakèt itilizasyon trioksid molybdène, li se itilize nan plizyè domèn:
Endistri chimik
Molybdène trioksid se lajman ki itilize nan endistri chimik nan preparasyon katalis, idrojenasyon katalitik, reyaksyon polimerizasyon ak sentèz òganik. Li ka ankouraje reyaksyon chimik pa reglemante aktivite katalitik ak selektivite.
Optoelektwonik
Akòz pwopriyete semi-conducteurs li yo ak efè nano-echèl, trioksid molybdène gen yon pakèt aplikasyon nan domèn optoelektwonik. Pou egzanp, li ka itilize nan preparasyon an nan aparèy optoelectronic tankou selil solè, fotodetektè ak ekspozisyon kristal likid.
Syans Materyèl
Ki baze sou estrikti inik ak pwopriyete fizik molybdène trioksid, li gen yon pakèt aplikasyon nan domèn syans materyèl. Pou egzanp, li ka itilize nan preparasyon an nan grès machin wo-tanperati, materyèl ignifuje ak materyèl ki reziste wo-tanperati.
Spesifikasyon
|
Fòm |
Disk / rektangilè / Tib |
|
Liaison |
Unbonding / Liaison |
|
Senbòl |
Moo3 |
|
Pite |
99.90% |
Baj popilè: molybdène oksid (moo3) sputtering sib, Lachin molybdène oksid (moo3) sputtering sib founisè, faktori
