Niobyòm oksid (Nb2O5) Sputtering Sib
Niobyòm oksid (Nb2O5) Sputtering Sib

Niobyòm oksid (Nb2O5) Sputtering Sib

Objektif oksid niobyòm nou yo pwodui lè l sèvi avèk vakyòm avanse cho peze, cho izostatik peze, frèt peze SINTERING ak pwosesis flite tèmik. Pwodwi nou yo gen ladan sib rektangilè, sib arc ak sib tib.
Voye rechèch
Pwodwi Deskripsyon

 

Objektif oksid niobyòm nou yo pwodui lè l sèvi avèk vakyòm avanse cho peze, cho izostatik peze, frèt peze SINTERING ak pwosesis flite tèmik. Pwodwi nou yo gen ladan sib rektangilè, sib arc ak sib tib.

 

Pite: 99.99%;

Fòm: silendrik, plat;

Gwosè frèt bourade ak sintered sib plat: longè ak lajè ranje 10-600 mm (personnalisable selon gwosè kliyan an).

Tib gwosè sib: ekstèn dyamèt 50-160mm, epesè 4-17.5mm; longè 200-4000mm (personnalisable selon gwosè kliyan an);

Density: 4.3 g/cm3~4.5g/cm3, relative density>99%;

Rezistivite: mwens pase 0.1 ohm.cm (20 degre);

Pwosesis: Niobyòm oksid rotary sib adopte plasma flite pwosesis, niobyòm oksid plat sib adopte frèt peze SINTERING, vakyòm cho peze, cho izostatik peze ak lòt twa pwosesis ka bay;

 

Aplikasyon

 

Fòmil chimik

Nb2O5

Koulè/Aparans

Blan, solid cristalline, gri-nwa

Fòm

Disk, Plak, Sib Kolòn, Sib Etap, oswa Custom-made

Gwosè

jiska 450 x 300 x 12 mm

Pite (%)

99.95

Pwen fizyon (degre)

1,485

 

Aplikasyon: materyèl sib oksid niobyòm pwensipalman itilize pou enèji solè mens fim, kouch vè optik, fim AR manyen ekran, fim vè LOW-E (vè radyasyon ki ba), semi-conducteurs, ekran manyen, ekspozisyon panèl plat, kouch dekorasyon zouti, elatriye.

 

Baj popilè: niobyòm oksid (nb2o5) sputtering sib, Lachin oksid niobyòm (nb2o5) sputtering sib founisè, faktori