Zikonyòm oksid (ZrO2) Sputtering sib
Zikonyòm oksid (ZrO2) Sputtering sib

Zikonyòm oksid (ZrO2) Sputtering sib

Nou pwodwi ak bay tout seri sib sputtering seramik ak sib konpoze, ki gen ladan sib sputtering oksid, sib sputtering carbure, sib sputtering fliyò, sib sputtering sulfid ak sou sa. Teknoloji pwodiksyon an nan sib sputtering seramik yo se laprès cho.
Voye rechèch
Pwodwi Deskripsyon

 

Nou pwodwi ak bay tout seri sib sputtering seramik ak sib konpoze, ki gen ladan sib sputtering oksid, sib sputtering carbure, sib sputtering fliyò, sib sputtering sulfid ak sou sa. Teknoloji pwodiksyon an nan sib sputtering seramik yo se laprès cho. Soti nan seleksyon an nan matyè premyè nan kontwòl la nan tanperati, presyon ak tan nan cho laprès SINTERING, nou estrikteman swiv pwosesis pwodiksyon an espesifik, konsa fini yo sib sputtering seramik gen karakteristik sa yo nan pite segondè, segondè dansite, koulè sifas inifòm san tach ak krak, itilizatè fen a ka jwenn pousantaj ewozyon konstan ak fim pi wo ak omojèn mens pandan pwosesis PVD.

 

Espesifikasyon

 

Non pwodwi

ZrO2 Seramik sputtering objektif

Pite ki disponib

99.9% min, jan ou mande

Fòm ki disponib

wonn, rektangilè, granules

Gwosè

1''- 8''mm,Dapre demann ou an

Teknoloji

metaliji poud

 

Zikonyòm oksid Sputtering Sib;

Pite: 99.99%;

Metòd pwodiksyon: SINTERING pou laprès cho, flite tèmik vakyòm;

 

Dimansyon ki disponib

 

Objektif sikilè: Dyamèt<= 14 inch, Thickness >= 3 mm;

Objektif rektangilè: Longè<= 14 inch, Width <= 10 inch, Thickness >= 3 mm;

Minimòm kantite lòd: 1 moso;

Kalite Liaison: Endyòm, Elastomer;

 

Baj popilè: zirkonyòm oksid (zro2) sputtering sib, Lachin oksid zirkonyòm (zro2) sputtering sib founisè, faktori