Pwodwi Deskripsyon
Zirkonyòm sputtering sib gen menm pwopriyete ak matyè premyè li yo. Dansite li se 6.49g/cc, pwen k ap fonn se 1852 degre, ak presyon vapè se 10 -4 Torr nan 1987 degre. Li se yon klere, koupe-blan, metal tranzisyon fò, trè menm jan ak Hafnium ak nan yon limit pi piti menm jan ak Titàn. Zirkonyòm se sitou itilize kòm yon materyèl refractory ak opacifier, men se yon ti kantite zirkonyòm itilize kòm yon ajan alyaj paske nan rezistans fò korozyon li yo.
Zirkonyòm Sputtering Target pwodui pa teknoloji k ap fonn, nòmalman yo itilize pou kouch dekoratif ak kouch optik. Segondè pi Zirkonyòm Sputtering sib gen anpil Hafnium se nòmalman aplike pou jaden optik, nou bay estanda Hf ak Zr objektif pou ekipman kouch Leybold.
Pandan ke zirkonyòm sib sputtering ak katod zirkonyòm arc ak pi ba pite yo itilize pou fè fim koulè lò. Avèk jiska 99.4% pite, gwosè inifòm grenn, pi ba kontni enpurte, itilizatè fen ka jwenn bon dite, segondè klète, korozyon ak koulè rezistan oksidasyon san dekolorasyon oswa sal pou yon tan trè long. Nou te bay Zirkonyòm Sputtering Target oswa Zirkonyòm arc katod pou manifaktirè nan mont, sanitè Ware, miwa machin, elatriye, ki se apwopriye pou divès kalite machin magnetron sputtering ak machin ion plating.
Espesifikasyon chimik
Objektif pite segondè nou an ka fè fim nan posede yon nivo eksepsyonèl nan konduktiviti elektrik epi minimize fòmasyon patikil la pandan pwosesis PVD la.
Zirkonyòm (Zr) Espesifikasyon
|
Kalite materyèl |
Zikonyòm |
|
Senbòl |
Zr |
|
Pwa atomik |
91.224 |
|
Nimewo atomik |
40 |
|
Koulè/Aparans |
Ajan blan, metalik |
|
Kondiktivite tèmik |
22.7 W/m.K |
|
Pwen fizyon (degre) |
1,852 |
|
Koefisyan ekspansyon tèmik |
5.7 x 10-6/K |
Materyèl ki gen rapò Sputtering
ZrY Sputtering Sib
TiZr Sputtering Sib
ZrO2 Sputtering Sib
ZrB2 Sputtering Sib
HfZrO2 Sputtering Sib
Baj popilè: zirkonyòm (zr) sputtering sib, Lachin zirkonyòm (zr) sputtering sib founisè, faktori



