Pwodwi Deskripsyon
Sputtering sib Ti33Al67 sib
Nou espesyalize nan pwodwi bon jan kalite segondè sib sputtering Ti33Al67 sib sputtering sib, sib seramik, sib metal.
Pwodwi yo aplike nan divès domèn kouch vakyòm pa divès metòd (magnetron sputtering, vakyòm plating, elatriye): rechèch syantifik, ayewospasyal, otomobil, mikwo-elektwonik, endistri sikwi entegre, sous limyè, optik, dekorasyon, endistri ekspozisyon panèl plat, enfòmasyon. endistri depo, depo done ak sou sa.
Titàn aliminyòm alyaj sputtering objektif ka fèt pa de fason, HIP ak k ap fonn. Sib HIP a pral pi wo dansite. Objektif la pa fonn yo pral pi wo. Tout bagay baze sou aplikasyon w lan.
Pite: Al-Ti 33/67 nan% Al/Ti 50/50 nan%, 99.95%, 99.5%
Fòm: Disk, Plak, Etap (Dia 300mm, Epesè 1mm) Rektang, Fèy, Etap (Length 1000mm, Lajè 300mm, Epesè 1mm) Tib (Dyamèt< 300mm, Thickness >2mm)
Aplikasyon: Prensipal yo itilize nan kouch zouti, Valv ki pa korozyon / Plant chimik, endistri maren.
Titàn aliminyòm Sputtering sib dekri teren
|
Pite |
Al-Ti (35/67at%)% 2c Al/Ti (50:50 nan%)% 2c 97/3wt%, Alti 95/5wt%, AlTi 90/10wt% |
|
Fòm |
Disk, Plak, Etap (Dia mwens pase oswa egal a 300mm, epesè ki pi gran pase oswa egal a 1mm) (Longè mwens pase oswa egal a 1000mm, Lajè mwens pase oswa egal a 300mm, epesè pi gran pase oswa egal a 1mm) |
|
Sètifikasyon |
ISO 9001:2008 |
|
Spesifikasyon |
Customized kòm demann |
|
Pwosesis |
Fòje, woule, fanm k'ap pile |
|
Aplikasyon |
1. Electroplating; 2. Jeni chimik & teknoloji petwochimik; 3. Medikal |
|
Dansite |
4.51g/cm³ |
Baj popilè: ti33al67 sib, Lachin ti33al67 sib founisè, faktori
